La industria de los semiconductores enfrenta un desafío significativo debido a la dependencia de la litografía de ultravioleta extremo (UVE), un área donde solo la empresa neerlandesa ASML produce las máquinas necesarias. Desde 2019, ASML no puede vender sus modelos más avanzados a China debido a presiones del gobierno estadounidense. Cada sistema de litografía tiene un coste que oscila entre 200 y 400 millones de dólares, y hasta el momento, no ha habido ventas a clientes chinos.
Recientemente, un equipo de la Academia China de Ciencias ha desarrollado la primera plataforma china de fuente de luz UVE utilizando tecnología de láser-plasma. Este proyecto está liderado por Lin Nan, un excientífico de ASML que regresó a China en 2021, atraído por un programa estatal para captar talento. Su método evita deliberadamente el procedimiento de ASML y más de 2.000 patentes de la compañía.
La columnista china especializada en semiconductores, Qiu Yanfang, ha comentado que esta estrategia de eludir patentes no es únicamente una maniobra legal, sino que también representa un avance genuino en ingeniería. Esta apreciación, publicada hace dos semanas, ha reavivado el interés sobre el progreso de China en su búsqueda por la independencia tecnológica en el ámbito de la litografía.
El enfoque técnico del equipo de Lin Nan se basa en la utilización de un láser de estado sólido de 1 micra, que impacta un blanco de estaño sólido, en contraste con el método de ASML, que aplica láseres de dióxido de carbono sobre gotas de estaño en movimiento. En un artículo publicado en diciembre de 2024, Lin y su equipo argumentaron que este nuevo tipo de láser podría convertirse en la fuente de próxima generación, gracias a su tamaño compacto y mayor eficiencia de conversión.
A pesar de la innovación, Qiu Yanfang señala que, en el corto plazo, esta fuente de estado sólido no tiene capacidad para desafiar el dominio actual de ASML, ya que la industria global de semiconductores ha creado sus cadenas de suministro en torno a la tecnología de la empresa neerlandesa.
Contexto: La dependencia del suministro de tecnología avanzada por parte de China ha llevado a un enfoque más agresivo en el desarrollo de su propia capacidad tecnológica en el sector de semiconductores. Con el auge de la demanda de dispositivos electrónicos y la necesidad de fabricación local, el país ha visto un creciente interés en innovaciones que le permitan competir a nivel global. Las restricciones impuestas por Estados Unidos han incentivado a empresas y equipos de investigación en China a explorar alternativas, y esta reciente iniciativa en litografía es un ejemplo de esos esfuerzos. En este contexto, el avance en la litografía UVE podría ser crucial para el futuro del mercado de semiconductores en China.